多重曝光
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DUV多重曝光能否替代EUV?三次曝光追平一次EUV的技术账
据报道,在EUV光刻机受限的背景下,中国芯片制造商正将DUV多重曝光技术的潜力压榨到极限。最新拆解数据显示,中国厂商在不使用EUV的情况下,已经实现了5nm级工艺的量产,DUV光刻机正在这场突围中扮演核心角色。
据报道,在EUV光刻机受限的背景下,中国芯片制造商正将DUV多重曝光技术的潜力压榨到极限。最新拆解数据显示,中国厂商在不使用EUV的情况下,已经实现了5nm级工艺的量产,DUV光刻机正在这场突围中扮演核心角色。