刻蚀
-
国产芯片装备再突破,北方华创发布先进气体团簇离子束刻蚀设备
芯物联消息,北方华创今日发布全新 12 英寸气体团簇离子束(GCIB)刻蚀设备 Acme Glaion130。该设备突破三大核心技术瓶颈,覆盖先进逻辑、存储、封装、硅光芯片及 AR / VR 应用场景。
芯物联消息,北方华创今日发布全新 12 英寸气体团簇离子束(GCIB)刻蚀设备 Acme Glaion130。该设备突破三大核心技术瓶颈,覆盖先进逻辑、存储、封装、硅光芯片及 AR / VR 应用场景。