重要性不输光刻机，被日本拿捏的芯片命门，我国正突出重围

我国芯片产业刚刚迎来一项关键突破——首个极紫外（EUV）光刻胶测试标准正式进入立项公示阶段。 10 月 23 日，国家标准化管理委员会公示了三项光刻胶相关标准，其中最受瞩目的是《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》。