国产光刻机
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进度远超预想,国产光刻机或将于年内突破芯片7nm制程量产难关
8月2日,据《证券日报》消息称,上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破,预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。据悉,上海微电子在之前90nm的基础上,即将量产28nm immersion式光刻机,在2023年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。
8月2日,据《证券日报》消息称,上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破,预计在2023年年底向市场交付国产的第一台SSA/800-10W光刻机设备。据悉,上海微电子在之前90nm的基础上,即将量产28nm immersion式光刻机,在2023年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。