纳米
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苹果发布史上最贵iPad!3纳米M4芯片也现身
日前苹果召开发布会,时隔一年终于更新了旗下的iPad系列产品线。本次发布会,包括iPad Air和iPad Pro系列的平板电脑产品线都得到了更新,苹果下调了iPad数字系列产品的售价,而iPad mini系列则已经有接近4年未得到更新。
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台积电获美国芯片法案66亿美元补贴,将在美投建2纳米工厂
当地时间4月8日凌晨,美国商务部发布公告声明,计划向台积电提供66亿美元的直接资金补贴,并提供高达50亿美元的低成本政府贷款,用于其在亚利桑那州凤凰城建设先进半导体工厂。
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科学家制备2英寸二硫化钼单晶薄膜,推动亚纳米芯片走向实际应用
当前,为了解决芯片微缩瓶颈、以及推进晶体管尺度的进一步微缩,必须寻找全新的沟道材料,从而开发新的器件功能和器件架构。2017 年,作为下一代晶体管沟道材料,二维半导体被纳入国际半导体器件与系统路线图(IRDS,International Roadmap for Devices and Systems)。
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芯片巨头开战2纳米
今年1月,荷兰ASML生产的第一台High-NA EUV光刻机首次开箱面世。这台总重约150吨、需250个集装箱才能装下的庞然巨物,可将世界上最先进的芯片制程从3纳米进一步缩小至2纳米。它的出现也打响了半导体厂商量产2纳米芯片的第一枪。
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斯柯达汽车推出新型纳米传感器 可实现更先进、更准确的辅助系统
据外媒报道,斯柯达汽车(Škoda Auto)通过新一代传感器和最先进的辅助系统进一步增强其旗舰ICE车型的安全性。转弯辅助(Turn Assist)、十字路口辅助(Crossroad Assist)和防撞辅助(Collision Avoidance Assist)作为增强型前部辅助(Front Assist)的一部分首次亮相,而旅行辅助(Travel Assist)、侧面辅助(Side Assist)和拖车辅助(Trailer Assist)的范围都显著扩大。
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美光计划部署纳米印刷技术,降低 DRAM 芯片生产成本
芯物联3 月 5 日消息,美光科技公司计划率先支持佳能的纳米印刷技术,从而进一步降低生产 DRAM 存储芯片的单层成本。美光公司近日举办了一场演讲,介绍在将纳米印刷技术应用于 DRAM 生产的一些细节。美光在演讲中表示 DRAM 节点和沉浸式光刻分辨率问题,名为“Chop”的层数量不断增加
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Tenstorrent将为日本LSTC新型边缘2纳米AI加速器开发芯片
2月27日,加拿大AI芯片初创公司Tenstorrent宣布与日本尖端半导体技术中心(LSTC)达成多层次合作协议,该中心选择Tenstorrent的世界级RISC-V架构和芯片IP用于其新型边缘2纳米人工智能加速器。
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英特尔1.4纳米芯片制造工艺首次亮相
北京时间2月22日,英特尔CEO帕特·基辛格在美国圣何塞举行的Intel Foundry Direct Connect大会上发布了最新代工进展,包括全新制程技术路线图以及新的客户和生态伙伴合作,并表达了其在2030年成为全球第二大代工厂的愿景。
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可制造5nm芯片!佳能:纳米压印设备最快今年交付
芯物联1月28日消息,据媒体报道,佳能负责新型光刻机的高管在接受采访时表示,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标今年或明年出货。去年10月中旬,佳能公司宣布推出基于纳米压印的FPA-1200NZ2C,佳能表示,该设备采用不同于复杂的传统光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。
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消息称台积电首批2纳米芯片大部分将供应苹果
芯物联1月25日消息,据报道,苹果已预订了台积电2纳米芯片最初的大部分产量。报道称,台积电2纳米芯片的生产预计将于2025年开始。人们普遍猜测,这些芯片将被苹果用于其定于2025年底发布的iPhone 17 Pro系列。
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中国电科实现国产离子注入机28纳米工艺全覆盖
记者29日从中国电子科技集团有限公司获悉,该集团旗下中电科电子装备集团有限公司(简称电科装备)已实现国产离子注入机28纳米工艺制程全覆盖,有力保障我国集成电路制造行业在成熟制程领域的产业安全。
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用DUV制造5纳米芯片?浸润式光刻之父林本坚:可行!
华为Mate 60 Pro 搭载海思麒麟9000S突破美国制裁而在业界造成不小轰动,业界普遍认为麒麟9000S是采用DUV光刻机多次曝光制造出来的。根据最新报道,台积电前副总裁、被称为浸润式光刻之父的林本坚(Burn J. Lin)认为,在现有DUV 设备制造不仅能制造7纳米,甚至5 纳米芯片也是可行的,不过将非常昂贵。
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三星又带着3纳米芯片来了!这次看点有哪些?
深秋的上海,第六届中国国际进口博览会展区内人头攒动,集纳了世界尖端科技的技术装备展区吸引了诸多观众驻足。作为半导体技术及移动终端的全球科技巨头,三星已经连续六年参展进博会。今年三星展台最“吸睛”的,是多项具有突破性的芯片技术产品。
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佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
芯物联11月6日消息,近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示,该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供应商就是ASML,EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要,但每台机器的售价高达数亿美元,只有少数公司才有能力购买。
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百纳米完胜7纳米?清华团队提出全新芯片架构
相同准确率下,比现有高性能芯片算力提升三千倍,能效提升四百万倍。光学部分的加工最小线宽仅采用百纳米级,电路部分仅采用180nm CMOS工艺,已取得比7纳米制程的高性能芯片多个数量级的性能提升。
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跨界生物电子学的蚕丝纳米界面,实现高灵敏有机电子传感器
呼吸可以揭示我们的健康状况。人体呼出气体中的微小分子,能够为肺部疾病、糖尿病等很多疾病提供有用的线索。这就是为什么研究人员一直热衷于开发能够精确检测这些化合物的更灵敏的呼吸传感器。近日,有学者报道了一种新型有机电子传感器,利用蚕丝的独特特性实现了前所未有的灵敏度和速度。